반도체입문교육
■ 교육개요
- 일 시 : 2017년 8월 16일(수) ~ 8월 18일(금)/ 3일, 24시간과정
- 장 소 : 이론-IT대학 3호관 103호, 실습 - IT대학 3호관 지하FAB 등
- 교육대상 : 반도체 FAB 입실자(IT3호관 지하FAB 및 반도체융합연구동 FAB 입실자), 반도체 교육을 희망하는 학생 및 일반
- 모집인원 : 20명 내외 (2개조 운영)
- 교 육 비 : 일반/30만원, 학생/20만원
■ 교육신청 : www.necst.or.kr (홈페이지 회원 가입 후 교육신청 접수)
■ 목 적 : 반도체 FAB 입실 안전교육과 기본적인 단위공정 및 장비 교육
■ 교육내용 : 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 장비 구동 방법 실습
■ 교육일정
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일자 |
시간 |
1조 |
2조 |
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교육내용 |
장비명 |
교육내용 |
장비명 |
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8/16 (8H) |
09:00~10:00 |
반도체 clean room 안전교육 - 모헌종 선임 |
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10:00~11:00 |
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11:00~12:00 |
lithography를 이용한 패턴 형성 기술의 이해 - 모헌종 선임 |
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12:00~13:00 |
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13:00~14:00 |
점심식사 |
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14:00~15:00 |
Etch & Cleaning 단위공정 이론 – 문상연 주임 |
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15:00~16:00 |
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16:00~17:00 |
Metal 단위공정 이론 - 문상연 주임 |
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17:00~18:00 |
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8/17 (8H) |
09:00~10:00 |
Dielectric 단위공정 이론 - 모헌종 선임 |
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10:00~11:00 |
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11:00~12:00 |
Photolithography -이재용 연구원 |
Mask aligner(MA6) |
Oxidation -문상연 주임 |
Furnace |
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12:00~12:30 |
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12:30~13:00 |
반도체 전공정 시청각교육 -모헌종 선임 |
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13:00~14:00 |
점심식사 |
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14:00~15:00 |
Etching -문상연 주임 |
wet station |
Photolithography -이재용 연구원 |
Mask aligner(MA6) |
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15:00~16:00 |
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16:00~17:00 |
Metalization -권순열 연구원 |
Evaporator |
Etching -문상연 주임 |
wet station |
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17:00~17:30 |
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17:30~18:00 |
반도체 전공정 시청각 교육–모헌종 선임 |
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8/18 (8H) |
09:00~10:00 |
반도체 소자 특성 분석 - 이준혁 연구원 |
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10:00~11:00 |
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11:00~12:00 |
Measurement - 이준혁 연구원 |
Probe station |
반도체 후공정 시청각교육– 모헌종 선임 |
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12:00~13:00 |
점심식사 |
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13:00~14:00 |
Oxidation - 문상연 주임 |
Furnace |
Measurement - 이준혁 연구원 |
Probe station |
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14:00~14:30 |
Metalization -권순열 연구원 |
Evaporator |
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14:30~15:30 |
반도체 후공정 시청각 교육- 모헌종선임 |
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15:30~16:30 |
Process Integration – 윤영준 연구원 |
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16:30~17:30 |
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17:30~18:00 |
총평 및 수료식 |
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주) 상기일정은 내부사정에 의해 변경될 수 있음. 7인 미만 신청시 폐강될 수 있음.
▶ 교육비(교재비 포함) : <학생>20만원, <일반>30만원
▶ 교육비 입금계좌 : 신한은행 100-025-630257(예금주 : 경북대학교 반도체융합기술연구원)
▶ 교육비 카드 결제는 불가하며, 요청 시에 견적서, 계산서 발행해 드립니다.
▶ 후불 주차권(종일권 1000원)을 제공해 드립니다.
▶ 위 일정은 강사 스케줄에 따라 변동될 수 있습니다.
▶ 교육과정의 90% 이상 출석하시면 수료증을 발급하여 드립니다.
▶ 교육신청 및 문의는 e-mail(dtec01@ee.knu.ac.kr)과 전화(053-950-7931)로 연락 바랍
