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장비명 Wet Station
업체명 (주)알오닉스
모델명 RN-A1
도입년도 2005-04-18
용도 반도체 제조공정 중 Wet Etching에 적용하는 설비로서 Contamination의 제거 목적으로 사용되며 공정 Flow는 산화막 제거 공정, 수세, 공정 금속 불순물제거, 수세공정 등의 방식으로 진행된다

▶ Bath 종류 : BHF, DHF, SPM, HPO, SC-2 QDR-1, QDR-2
▶ 대응 Size : 4 ~ 6 inch wafer 1 casstte
▶ Operation method : Touch Panel Control
장비상태 가동

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