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장비명 Mask Aligner
업체명 SussMicroTec
모델명 MA6/BA6
도입년도 1998-04-04
용도 Photolithorgraphy에 사용되는 장비로, 반도체 소자 혹은 집적회로의 구조를 크롬이 칠해진 유리판 위에 형성한 마스크의 패턴을 Wafer표면의 PR (Photo resist) 에 전사시키는 장치

▶ 정렬방식(alignmentmode) : 수동
▶ 정렬의 정확도(alignment accuracy):윗면 –0.5um, 아랫면 - 1um
▶ 인화 방식(print mode): proximity & contact, soft contact, hard contact, Low Vacuum contact, vacuum contact
▶ 사용파장:365nm(필터 사용 : l-line)
▶ 고해상도 CCD카메라 (Nikon)
▶ 현미경배율 : 5X
▶ 해상도 :1nm(인화방식으로 vacuum contact 사용시)
▶ 사용가능마스크: 4-6 inch 마스크
장비상태 가동

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