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장비명 6” 열확산로 1 (6” Furnace 1)
업체명 SELTRON
모델명 SHF-150
도입년도 2003-07-28
용도 초기 실리콘 기판에 대해서 고온의 산소 분위기에서 산화막 형성
Dry Ox / Wet Ox / Metal alloy

▶ Wafer size : 4~6” Si wafer 전용
▶ Horizontal type 3Chamber system
▶ Wafer auto loading system
▶ H2/O2 Torch system (Wet oxidation)
▶ 공정명
- 1Tube (Dry oxidation)
- 2Tube (Wet oxidation)
- 3Tube (Metal alloy)
▶ 공통사항
- Temp rate : 800~1,100℃
- Temp ramping up : 3~8℃/min
- Flatzone : 300mm±1℃
- Heater material : Kanthal A1
- Temp control : PID control
- Gas control : MFC control
- Gas : PN2, O2, CDA (2/3Tube 각 H2추가)
장비상태 고장
수리일정 ▶ Dry Oxidation Tube는 운영 중
▶ Wet Oxidation Tube는 온도 컨트롤러 이상으로 인해 현재 장비 조치 진행 중(일정미정)
▶ Metal Alloy Tube는 수리 불가로 인해 운영 안됨

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