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장비명 6” 열확산로 2 (6” Furnace 2)
업체명 SELTRON
모델명 SHF-150
도입년도 2003-07-28
용도 농도차에 따라 액체나 기체가 고농도에서 저농도 쪽으로 이동하는 확산방식을 이용하여 확산로에서 wafer에 높은 온도를 가해 불순물 B(붕소)나 P(인) 등을 주입 시킬때 사용
N+ / P+ Annealing

▶ Horizontal type 3Chamber system
▶ Wafer auto loading system
▶ 공정명
- 1Tube (Blank)
- 2Tube (N+ anneal)
- 3Tube (P+ anneal)
▶ 공통사항
- Temp rate : 800~1,100℃
- Flatzone : 300mm±1℃
- Temp ramping up : 3~8℃/min
- Heater material : Kanthal A1
- Temp control : PID control
- Gas control : MFC control
- Gas : PN2, O2, CDA, Bubbler
장비상태 가동

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