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장비명 마스크 노광기 (Midas aligner)
업체명 Midas
모델명 MDA-8000
도입년도 2006-01-11
용도 Photolithorgraphy에 사용되는 장비로, 반도체 소자 혹은 집적회로의 구조를 크롬이 칠해진 유리판 위에 형성한 마스크의 패턴을 Wafer표면의 PR (Photo resist) 에 전사시키는 장치

▶ Wafer size : 4, 6 inch
▶ 정렬방식(alignmentmode) : 수동
▶ 정렬의 정확도(alignment accuracy ) :윗면–1um, 아랫면-1um
▶ 인화 방식(print mode) : proximity & contact, soft contact, hard contact, Low Vacuum contact, vacuum contact
▶ 사용파장 : 365nm(필터 사용 : i-line)
▶ 고해상도 CCD카메라 (Nikon)
▶ 현미경배율 : 65X~1000X
장비상태 가동

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