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장비명 ICP(Polymer)
업체명 ULTECH
모델명 ICP-RIE
도입년도 2004-04-09
용도 Display 소자 및 광학소자 제작시 사용되는 PR, PMMA 등의 Polymer를 식각하는 장비

▶ Process : Polymer dry etcher
▶ Substrate size : 6 inch
▶ Through method : Automatic control by PC / Chamber ultimate pressure
▶ Loadlock chamber : ≤ 5 * 10-3 Torr
▶ process chamber : ≤ 5 * 10-6 Torr
▶ ICP source power : 2kW
▶ Chuck bias power : 555W
▶ Chuck cooling method : Chiller + He cooling
▶ Etch material : PMMA, Poly streme. PR, etc.
장비상태 가동

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