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장비명 Evaporator(ERC)
업체명 SORONA
모델명 SRN-200
도입년도 2011-10-11
용도 Metal Deposition
진공 중에서 증착원을 열적으로 증발, 승화시켜 기판 상에 증착입자를 부착, 퇴적시켜 박막을 형성하는 장비

▶ E-beam/Thermal process system
▶ 공정명 : Metal deposition
▶ 공통사항 :
1. Target : 전자빔 Ti, Ta, Al, Ni, Au, Si / 열저항 Al, Ti
2. 가속전압 : 9.9KeV(max)
3. Crucible : 15cc, 6EA
4. Vacuum
- Ultimate Pressure(Cryo pump) : E-9Torr
- Base Pressure(Rotary pump) : 50mTorr
- Leak rate : 1.0*10E-7 std cc/sec
5. Dome Rotation motor : 0 ~ 60rpm
6. Lamp Heater : 300℃(max)
7. Product capacity : 5 wafer process
장비상태 가동

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